Optical and EUV lithography : a modeling perspective

Bibliographische Detailangaben

Titel
Optical and EUV lithography a modeling perspective
verantwortlich
Erdmann, Andreas (VerfasserIn)
veröffentlicht
Bellingham, Washington: SPIE Press, 2021
Erscheinungsjahr
2021
Medientyp
Buch
Datenquelle
British Library Catalogue
Tags
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Umfang
xxii, 351 pages; illustrations; 26 cm
Sprache
Englisch
Schlagworte
Photolithography.
Extreme ultraviolet lithography.
DDC-Notation
686.232
Bibliografie
Includes bibliographical references and index.
ISBN
9781510639010